Smartphones, Kameras, Laptops: All diese elektronischen Geräte sind aus unserem Leben nicht mehr wegzudenken. Immer größere Datenmengen können gespeichert oder transferiert werden. Licht bildet die Grundlage der modernen Informations- und Kommunikationstechnologie. Die Bandbreite reicht von der Datenübertragung mit Hilfe von Lichtwellenleitern in Glasfaserkabeln bis hin zur Speicherung und Verarbeitung von Daten auf Mikrochips.

Technologien von ZEISS spielen bei der Herstellung von leistungsfähigen Mikrochips eine entscheidende Rolle. In einem Belichtungsverfahren, Lithografie genannt, wird Licht gezielt gebündelt, um kleinste Strukturen auf den Mikrochips zu erzeugen. Dafür wird eine Photomaske erstellt, die alle Informationen über die späteren Schaltkreise des Chips enthält. In einem sogenannten Wafer-Scanner fällt Licht durch die Photomaske auf eine mit photoaktivem Lack beschichtete Siliziumscheibe, dem Wafer. Die Strukturen auf der Maske werden dabei mit einem ZEISS Objektiv vierfach verkleinert. Der Wafer wird nach der Belichtung wie ein analoger Film entwickelt. Bei diesem Prozess löst sich in den belichteten Bereichen der Lack auf. Hier ist der Wafer dann leitfähig und es können Schaltkreise entstehen – auf kleinstem Raum.

Auch bei der Prozesskontrolle in der Halbleiterindustrie werden ZEISS Technologien eingesetzt. Da die Photomasken alle relevanten Daten enthalten, die auf die Wafer übertragen werden sollen, dürfen sie keine kritischen Defekte enthalten. Nur so können funktionsfähige Chips hergestellt werden. Mit Lösungen von ZEISS können Defekte auf Masken zuverlässig analysiert und repariert werden - bis auf Subnanometer genau. Und alles mit Hilfe des Lichts!

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